磁控溅射镀膜的优点

2021/08/18

（1）基板有低温性。相对于二级溅射和热蒸发来说，磁控溅射加热少。

（2）有很高的沉积率。可溅射钨、铝薄膜和反应溅射TiO2、ZrO2薄膜。

（3）环保工艺。磁控溅射镀膜法生产效率高，没有环境污染。

（4）涂层很好的牢固性，溅射薄膜与基板，机械强度得到了改善，更好的附着力。

（5）操作容易控制。镀膜过程，只要保持压强、电功率溅射条件稳定，就能获得比较稳定的沉积速率。

（6）成膜均匀。溅射的薄膜密度普遍提高。

（7）溅射的金属膜通常能获得良好的光学性能、电学性能及某些特殊性能。

（8）溅射可连续工作，镀膜过程容易自动控制，工业上流水线作业。